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實驗設備:由沈陽科晶自動化設備有限公司制造的SYJ-400劃片切割機、UNIPOL-1200M自動壓力研磨機、MTI-250加熱平臺、UNIPOL-900Z震動拋光機、UNIPOL-1203化學機械磨拋機、EP系列電解拋光儀、XQ-2B金相試樣鑲嵌機、4XC金相顯微鏡
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SYJ-400劃片切割機 |
XQ-2B金相試樣鑲嵌機 |
CXQ-2500冷鑲嵌機 |
UNIPOL-1200M自動壓力研磨機 |
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UNIPOL-1203化學機械磨拋機 |
EP系列電解拋光儀 |
UNIPOL-900Z震動拋光機 |
4XC金相顯微鏡 |
固定在卡具中的樣品在一定的振動頻率下隨著卡具在拋光盤中繞圈運動,該震動頻率使樣品的繞圈速度約每分鐘5圈,一般選取設備與試樣的共振頻率對樣品進行拋光。拋光盤中所添加的拋光液的量應把拋光墊剛好覆蓋并能接觸到樣品為宜,在拋光過程中每隔一段時間觀察拋光液的余量,并進行適當的添加,以保證震動拋光過成的順利進行。不同的樣品拋光的時間有所不同,由于震動拋光屬于溫和的拋光過程,因此震動拋光的時間相對較長,一般在兩小時以上甚至幾十小時。本實驗由于馬氏體鋼屬于相對較硬的金屬,因此震動拋光馬氏體鋼所用的時間較長為12h。拋光結束后立刻將試樣放置到酒精中進行超聲清洗,從而將試樣表面殘余拋光液清洗干凈。若取下樣品后不立即放入酒精中進行清洗,殘余拋光液就會干涸在樣品表面而很難清洗干凈。超聲清洗后使用電吹風將樣品吹干,吹干樣品時應注意使風向和樣品表面呈45°角,從而使樣品與鑲嵌料之間的間隙中的殘留液體被直接吹干而不會倒流回樣品表面使樣品表面產生二次污染。拋光后的樣品如圖三所示:可見拋光后的樣品表面光亮如鏡。 |
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用帶有電子背散射衍射探頭的掃描電鏡對樣品進行EBSD測試,結果如下圖四和圖五所示:從圖四中衍射質量圖可以看出樣品表面襯度清晰,無污跡存在。從相分布圖可清晰觀察出各項的分布狀況,圖中主要為鐵的體心立方相,少量的為鐵的面心立方相。(衍射質量圖/相分布圖) |
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從取向分布圖可以清晰觀察到晶體取向分布狀況,并且未發現在晶粒中間有影響取向觀察的劃痕等機械痕跡穿過。 |
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從圖三、四、五可知該震動拋光機拋光后的馬氏體鋼表面無機械劃痕和機械應力存在,拋光后的樣品經EBSD分析得到清晰地相分布和取向分布圖,說明該震動拋光機十分適合用于對該馬氏體鋼EBSD樣品的前期拋光處理。 |
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拓展: |
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機械-化學拋光
經機械拋光的試樣不經腐蝕也可以直接進行EBSD檢測,但經過適當腐蝕后會提高EBSD的成像質量。常規的機械拋光不能有效去除樣品表面的變形層,要獲得較好質量的EBSD花樣,最好采用機械-化學綜合拋光。 |
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電解拋光 電解拋光是靠電化學的作用使試樣磨面平整、光潔,具有操作簡單、快速、低成本等優點。一般處理大批量的EBSD試樣首選電解拋光。電解拋光可以非常有效的去除表面的氧化層和應力層。不同材 質電解拋光工藝不同,需要摸索合適的拋光劑,原始的拋光劑可以在文獻和一些工具書中找到, 然后需要進行大量的試驗,才能找到理想的拋光 參數(如:試劑配方、拋光時間、溫度等)。 電極材料有不銹鋼板,鋁板、鉛板、鈦板、合金板等,具體選擇哪一種要看需要拋光的樣品而 定。侵入電解液的陰極板面積一般不能小于 50mm2,陰極面積太小,電流就會不均勻。陰極板可以豎直或彎成L型再放入電解液,L型電極可以提高電解拋光樣品的成功率。 電解拋光用電源有直流源、電壓源、穩壓穩 流源。特殊的也有用交流電源,其基本原理:當交流電正半周時,和直流拋光一樣,負半周間歇。這是一種脈沖使電解拋光,可有效得消除試樣表面因直流電解容易產生氧化膜的問題。 電解拋光的注意事項: 1) 必須先接通直流電源,然后把固定好的試樣放入電解液中,立即調整拋光電流至額定值,同時對電解液進行充分的攪拌和冷卻或加熱,使電解液的溫度保持在額定值; 2) 拋光完成后必須先把試樣從電解液中移出,再切斷電源,然后要迅速在清水中沖洗,也可先沖洗然后用超聲波清洗,去除樣品表面的電解液以免與樣品發生化學反應; 3) 拋光的樣品不宜過大,雖然電流密度可以調整,但操作經驗表明,面積較小的樣品成功率較高; 4) 優化一種材料的拋光工藝需要做大量的工作,陰極與樣品表面的距離、攪拌速度、電解液濃度的變化甚至電解液溫度都能夠影響樣品成功與否。 |
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