Products Center
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
| 產品名稱 |
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 |
|
|
產品型號 |
VTC-600-2HD |
|
| 安裝條件 |
本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 |
|
|
主要參數 |
1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：900W 3、腔體內徑：?300mm 4、極限真空度：9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 6、靶槍數量：2個（可選配其他數量） 7、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 9、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個直流電源，也可選擇兩個射頻電源，或選則一個直流一個射頻電源） 10、載樣臺：?140mm，可根據客戶需求選配加裝偏壓功能，以實現更高質量的鍍膜。 11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 12、工作氣體：Ar等惰性氣體 13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。 |
|
| 產品規格 |
1、主機尺寸：500mm×560mm×660mm |
|
| 標準配件 |
1直流電源控制系統1套 2射頻電源控制系統1套 3膜厚監測儀系統1套 4分子泵（德國進口或者國產更大抽速）1臺 5冷水機1臺 6聚酯PU管（?6mm）4m |
|
| 可選配件 |
金、銦、銀、鉑等各種靶材 |
|
本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等），僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，或許導致所述內容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知。
請填寫表格與我們聯系
設備自主研發設計
生產線組裝調試
點對點專屬銷售服務
安裝培訓一站式服務
手機商城
微信公眾平臺
KJ GROUP
版權所有?沈陽科晶自動化設備有限公司
備案號：遼ICP備07009795號-1
技術支持：龍采科技集團
