微納米硅化鉬粉
微納米二硅化鉬粉通過可變電流激光離子束氣相法制備，純度高，粒徑小，分布均勻，是一種高級工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔點2030℃，具有導電性，在高溫下表面能形成二氧化硅鈍...
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產品歸類 |
型號 |
平均粒徑（um） |
純度 |
比表面積（m2/g） |
體積密度（g/cm3） |
晶型 |
顏色 |
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微納級 |
CW-MoSi2-001 |
<1.0 |
99.5 |
24.24 |
4.21 |
立方 |
黑色 |
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超細級 |
CW-MoSi2-002 |
1-3um |
99.5 |
17.67 |
4.56 |
立方 |
灰黑色 |
| 噴涂級 | CW-MoSi2-003 | 20-40 | 99.5 | 4.95 | 4.87 | 球形 | 灰黑色 |
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加工定制 |
根據客戶需求適當調整產品純度及粒度 |
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主要特點
微納米二硅化鉬粉通過可變電流激光離子束氣相法制備，純度高，粒徑小，分布均勻，是一種工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔點2030℃，具有導電性，在高溫下表面能形成二氧化硅鈍化層以阻止進一步氧化，MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量高的一種中間相，具有金屬與陶瓷的雙重特性。二硅化鉬有良好的高溫抗氧化性、高溫可塑性、導熱導電性和流動性，在高溫結構陶瓷領域有著廣泛的應用應用領域
二硅化鉬主要應用作發熱元件、集成電路、高溫抗氧化涂層及高溫結構材料；
二硅化鉬作為結構材料用于航空、航天、汽車燃氣渦輪機的高溫部件。
技術支持
可以提供微納米二硅化鉬粉在發熱元件、高溫氧化涂層、復合材料中的應用技術支持，具體應用咨詢請與銷售部人員聯系。咨詢郵箱sales@kaiyun.com QQ892050749
包裝儲存
本品為抽真空包裝，應密封保存于干燥、陰涼的環境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發生團聚，影響分散性能和使用效果。
產品資料、技術咨詢、索樣：
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